jxe_Ethicon_PROXIMATE

Proximate ILS Staple

Ethicon

Fabrikat/model

Ethicon Endo-Surgery and PROXIMATE ILS

Curved and Straight Intraluminal Staplers

Ethicon

Statisk feltstyrke

Maksimalt 3,0 Tesla

Scannerarkitektur

Tunnel-design, cylindrisk magnet

Spatial gradient

Maksimalt 6,5 T/m (650 Gauss/cm)

Slew rate (Gr)

200 T/m/s

SAR

Maksimal WB-SAR: 1,2 W/kg pr. 20 min

B1+rms

Ingen restrektioner

Coil type

Ingen restrektioner

Artefakter

Maksimalt 33 mm fra implantatet

Temperaturstigning

Maksimalt 2 grader ved ovennævnte SAR-restriktion

Kilde

IFU fra producenten: Referente 1075_001

Gyldighed

Denne procedure kan anvendes som inspirationskilde til udvikling af egne sikkerhedsforskrifter

Information

Procedure 1075. Revision: 1.5

Udarbejdet af: Bo Haugaard Jørgensen

Dato: 26.03.2023

Opdateres: Løbende, senest 01.01.2025